择优取向纳米孪晶铜界面屋脊状金属间化合物形成机理论文
2026-05-14 17:35:11 来源: 作者:xuling
摘要:针对微型化趋势下互连焊点尺寸减小而凸显的界面金属间化合物(IMC)各向异性问题,研究了反应温度对(111)择优取向纳米孪晶Cu(nt-Cu)/Sn焊点界面η-Cu6Sn5取向与形貌的影响规律。
摘要:针对微型化趋势下互连焊点尺寸减小而凸显的界面金属间化合物(IMC)各向异性问题,研究了反应温度对(111)择优取向纳米孪晶Cu(nt-Cu)/Sn焊点界面η-Cu6Sn5取向与形貌的影响规律。结果表明:在等温反应阶段,高温下界面η-Cu6Sn5呈现(1120)η//(111)Cu择优取向,而低温下其取向分布趋于随机;受Jackson因子(α<2)主导,等温阶段η-Cu6Sn5在所有温度下均呈扇贝状形貌。在后续凝固阶段,高温下预先形成的择优取向促使(1120)η晶面快速生长,并最终被(1010)η晶面替代,形成屋脊状形貌;相比之下,低温下因η-Cu6Sn5取向随机、生长各向同性,凝固后仍保持扇贝状形貌。本研究阐明了界面IMC晶体取向与形貌演变的形成机制,为微焊点界面IMC取向与形貌调控提供了理论指导。
关键词:界面反应;(111)择优取向纳米孪晶Cu;晶体取向;扇贝状η-Cu6Sn5;屋脊状η-Cu6Sn5
随着电子封装技术向微型化方向发展,焊点中尺寸效应日益显著,加剧了回流过程中熔融钎料与凸点下金属化层(UBM)间的界面反应,导致脆性界面金属间化合物(IMC)在微焊点中的体积分数不断升高,对微互连结构的服役可靠性构成严峻挑战[1-4]。
作为一种典型的界面IMC,具有密排六方晶体结构的η-Cu6Sn5形成于Cu UBM与熔融Sn基钎料的界面反应过程。随着焊点尺寸不断减小,界面处生成的η-Cu6Sn5晶粒数量显著减少,其固有的各向异性愈发凸显[5]。因此,研究界面η-Cu6Sn5晶粒取向对理解微焊点可靠性具有重要意义。
在界面反应过程中,η-Cu6Sn5晶粒可形成扇贝状、棱柱状及屋脊状等多种形貌[6-7],其形貌转变受钎料成分、回流温度及UBM晶体取向等因素的共同影响[8-9]。根据经典凝固理论,η-Cu6Sn5的粗糙度因子(α)在典型回流温度范围内通常小于2,因此在多数情况下呈现典型的扇贝状形貌。然而,在特定条件下η-Cu6Sn5也可形成具有择优取向的非典型形貌。在(001)Cu/solder与(111)Cu/solder界面处生成具有(1120)η择优取向的屋脊状η-Cu6Sn5晶粒,这归因于[0001]η方向与[110]Cu方向间的低错配度(仅为1.47%)。崔益鹏[10]发现,在高温条件下,原子团簇尺寸的减小促使低错配形核占主导地位,导致(001)单晶Cu基体上η-Cu6Sn5形貌由250℃下的扇贝状转变为300℃下的屋脊状,这表明屋脊状晶粒的形成受到Cu基体晶体取向与反应温度的协同调控。
尽管单晶Cu基体有助于形成择优取向界面η-Cu6Sn5,然而其制备工艺与现有电子封装技术兼容性较差,限制了其实际应用。为此,研究者开始转向对新基体材料的探索。Chen等[11]采用电镀法制备的(111)择优取向纳米孪晶铜(nt-Cu)作为UBM时,发现界面η-Cu6Sn5呈现出[0001]η的择优取向。Huang等[12]在(111)nt-Cu/Sn/Cu焊点的液-固界面反应中发现了η-Cu6Sn5不对称生长现象,并将其归因于nt-Cu中孪晶界对Cu原子扩散的阻碍作用。Huang等[13]进一步报道了300℃下(111)nt-Cu表面可形成具有(1120)η择优取向的η-Cu6Sn5晶粒,其形成机制符合高温下低错配形核理论,与单晶Cu基体上的择优取向η-Cu6Sn5形成机制一致。
现有研究多集中于对界面反应钎料凝固后的界面微观组织进行分析,以揭示η-Cu6Sn5的最终形貌与晶体取向特征。然而,其在保温与凝固阶段的形成与演变机制尚不明确。为此,文章研究了不同反应温度下(111)nt-Cu/Sn焊点在保温与凝固阶段界面η-Cu6Sn5形貌与取向的演变规律,进而阐明了屋脊状η-Cu6Sn5的形成机制。
1实验
本研究采用电镀工艺在多晶铜基底上制备了(111)nt-Cu基体,电镀液为含多种添加剂的CuSO4溶液。将直径1mm的纯Sn焊球置于(111)nt-Cu基体表面,分别在240℃、250℃、260℃下反应60s。反应完成后,样品经高压空气吹扫去除焊料或通过空冷方式处理(AirCooling,AC)至室温,随后采用10wt.%HNO3溶液浸泡12h并辅以超声清洗,去除残余钎料并暴露界面处Cu6Sn5(η相)IMC层,并通过SEM-EDS验证其化学组成。

利用配备电子背散射衍射(EBSD)技术的扫描电子显微镜(JSM-IT800)对界面η-Cu6Sn5晶粒的形貌与晶体取向进行表征。样品经氩离子抛光处理以提升EBSD的信号质量,EBSD表征区域为50μm×50μm,步长为0.25μm,确保采集不少于100个η-Cu6Sn5晶粒的取向数据,以保证统计结果的代表性。电镀制备的(111)nt-Cu基体横截面微观组织及表面EBSD分析结果,如图1所示。该nt-Cu基体主要由垂直于基体表面生长的柱状晶构成,且柱状晶内部包含大量平行于基体表面的纳米孪晶片层。EBSD分析表明基体表面具有显著的(111)织构特征。
2结果与讨论
2.1界面η-Cu6Sn5晶粒的形貌与取向
不同温度下回流60s后(111)nt-Cu/Sn焊点界面处η-Cu6Sn5晶粒的俯视形貌,如图2所示。经HP处理去除了熔融焊料后,可观察到等温反应阶段η-Cu6Sn5晶粒的形貌,呈典型的扇贝状特征,如图2(a)~图2(d)所
示。在AC条件下,240℃和250℃回流后界面η-Cu6Sn5仍保持扇贝状形貌,如图2(e)~图2(f);当温度升高至260℃时,部分晶粒开始向屋脊状转变,如图2(g)所示;继续升高温度至300℃后,所有晶粒均呈现屋脊状形貌,如图2(h)所示,这表明屋脊状形貌主要形成于钎料的凝固阶段,而非等温反应阶段。

不同温度下回流60s后界面η-Cu6Sn5晶粒的取向分布图,如图3所示,其中白色晶粒代表(1120)η取向。
在较低反应温度下,η-Cu6Sn5晶粒取向分布较为随机;随着反应温度的升高,白色晶粒比例明显增加,表明η-Cu6Sn5晶粒趋于形成(1120)η//(111)Cu的择优取向,这与前期研究结果一致[13],归因于高温条件下液态钎料中较小的Cu6Sn5中程有序团簇,使得低错配形核机制占据主导(<0001>η与<011>Cu之间的错配度仅为1.46%)。通过对比HP处理的EBSD结果,如图3(a)~图3(d)所示,与AC处理,如图3(e)~图3(h)所示,凝固过程对界面η-Cu6Sn5的取向分布影响较小,说明(1120)η择优取向主要形成于等温反应阶段。
为定量评估上述取向关系,对EBSD数据进行了统计分析。样品坐标系[uvw]与晶体坐标系[xyz]之间的转换关系可通过方向余弦矩阵g1或欧拉旋转矩阵g2进行


晶面因面间距较小而具有较高的法向生长速率,因此在生长过程中逐渐消失;而与之呈30o角、具有较大面间距、生长缓慢的(1010)η晶面被保留,最终形成由两个夹角为120°的(1010)η晶面构成的屋脊状形貌。相比之下,低温条件下等温阶段形成的η-Cu6Sn5晶粒取向随机分布,凝固阶段晶体生长趋于各向同性,从而削弱了特定晶面的优势生长。因此,凝固阶段形成的晶粒仍呈现扇贝状形貌,未能形成由特定低指数晶面构成的形貌特征。
3结论
综上所述,界面η-Cu6Sn5晶粒的择优取向(1120)η//(111)nt-Cu形成于等温阶段,而不是凝固阶段,该位向关系随温度升高而增强;在凝固阶段,高温下形成屋脊状形貌,低温下则呈扇贝状形貌。在等温阶段,由于Jackson粗糙因子α<2,固-液界面在原子尺度呈粗糙结构,界面η-Cu6Sn5宏观上均呈现光滑的扇贝状形貌。在凝固阶段,高温下形成的择优取向晶粒遵循Bravais晶体生长法则,(1120)η晶面快速生长消失并保留(1010)η晶面,从而形成屋脊状形貌;低温下晶粒取向随机分布,生长趋于各向同性,最终η-Cu6Sn5晶粒呈扇贝状形貌。
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